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Labor Drei Kanäle 8 Zoll ALD Atomic Layer Deposition System beschichten Al2O3 Dünnfilm

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Labor Drei Kanäle 8 Zoll ALD Atomic Layer Deposition System beschichten Al2O3 Dünnfilm

Haupteigenschaften

Branchenspezifische

Schicht
Vakuumschicht
Spannung
Einphasig 220 VAC, 50 / 60hz
Energie (HP)
2000w

Weitere

Art
Andere
Garantie
1 JAHR
Gewicht (KG)
800
Substrat
Andere
Video ausgehenden-inspektion
Zur verfügung gestellt
Maschinen Prüfbericht
Zur verfügung gestellt
Core Komponenten
PLC, Motor, Motor, Druckbehälter, Getriebe, Pumpe
Ursprungsort
Henan, China
Markenname
CYKY
Maß (L*W*H)
440mm l * 330mm w * mm h
Schlüssel Verkauf Punkte
Einfach zu Bedienen
Produktname
Ald atomare Schicht abscheidung ausrüstung
Nutzung
Film vorbereitung
Proben stufen größe
4-12 Zoll
Substrat heizt emperatur
RT-400 ℃; ± 1 ℃
Anzahl der Vorläufer
4-8
Rohrleitung temperatur der Vorläufer quelle
RT-200 ℃; ± 1 ℃
Quelle Behälter temperatur
RT-200 ℃; ± 1 ℃
Ablagerung modus
Ast-Modus, Modus mit hohem Seiten verhältnis
Nenn pump geschwindigkeit
> M3/h
Drucksensor
5 * 10-5torr-atmos phä rischer Druck

Bearbeitungszeit

Produktbeschreibung des Lieferanten

2 - 2 Sätze
104.276,44 €
>= 3 Sätze
102.308,96 €

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