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Labor Vakuum Plasma Reinigungs maschine für 4 Zoll Wafer

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Zhengzhou Cy Scientific Instrument Co., Ltd. Sonderanfertiger 11 yrs CN
Labor Vakuum Plasma Reinigungs maschine für 4 Zoll Wafer
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Labor Vakuum Plasma Reinigungs maschine für 4 Zoll Wafer

Haupteigenschaften

Branchenspezifische

Schicht
Plasma reinigung
Spannung
110/200V, 50/60Hz
Energie (HP)
1500w

Weitere

Art
Plasma-Reinigungs maschine
Garantie
1 JAHR
Gewicht (KG)
110
Substrat
Stahl
Video ausgehenden-inspektion
Zur verfügung gestellt
Maschinen Prüfbericht
Zur verfügung gestellt
Core Komponenten
HF-Netzteil
Ursprungsort
Henan, China
Markenname
CYKY
Maß (L*W*H)
600*550*620mm
Schlüssel Verkauf Punkte
Günstigen Preis
Maschine Typ
Pre-behandlung Ausrüstung
Produktname
Labor Vakuum Plasma Reinigungs maschine
Schlüssel wörter
Vakuum-Plasma-Reinigungs maschine
Kammer material
Quarz
Kammer größe
120*280mm
HF-Leistung
500w
Frequenz
13,56 MHz
Gas
Schwimmer-Durchfluss messer
Vakuumpumpe
Drehschieber-Vakuumpumpe
Verfügbares Gas
Ar, o2
Anwendungs bereich
Wafter reinigung

Verpackung und Lieferung

Verkaufseinheiten:
Einzelartikel
Einzelpackungsgröße:
XX cm
Einzelbruttogewicht:
kg
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1 - 1 Sätze
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