Plasma-verstärkte chemische Dampf-Ablagerungsanlage dient zur Ablagerung verschiedener dünnschichten auf verschiedenen Substratmaterialien

Name: Plasma-verstärkte chemische Dampf-Ablagerungsanlage dient zur Ablagerung verschiedener dünnschichten auf verschiedenen Substratmaterialien
Brand: Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd.
SKU: 1600619399335
Price: 20,500 USD
Availability: InStock

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Zhengzhou Tainuo Film Materials Co., Ltd. 7 yrs

Hauptmerkmale

Andere Merkmale

Art

Beschichtung maschine

Maschine Typ

Cvd

Video ausgehenden-inspektion

Zur verfügung gestellt

Maschinen Prüfbericht

Nicht Verfügbar

Marketing Typ

Neues Produkt 2024

Garantie von core komponenten

1 JAHR

Core Komponenten

PLC, Pumpe

Ursprungsort

Henan, China

Garantie

1 JAHR

Schlüssel Verkauf Punkte

Günstigen Preis

Anwendbar Branchen

Andere

Showroom Lage

Keine

Gewicht (KG)

Substrat

Stahl

Bedingung

Neu

Schicht

Vakuumschicht

Markenname

Spannung

220 v

Energie (HP)

500 w

Maschine Typ

Beschichtung Ausrüstung

Produktname

Pecvd

Schlüssel wörter

Chemische Gasphase abscheidung

Anwendung

Abgelagerter Film

Strom versorgung

0 ~ 500 w

Kammer material

Ss304

Beschichtung substrat

Steuer modus

PID

Technologie

Cvd

Vakuumkammer

Durchmesser 245mm * 300mm

Kundendienst zur Verfügung gestellt

1 Jahr

Verpackung und Lieferung

Verkaufseinheiten:

Einzelartikel

Einzelpackungsgröße:

80X50X60 cm

Einzelbruttogewicht:

70.000 kg

Beschaffungszeit

Produktbeschreibungen vom Lieferanten

1 - 1 Sätze

18.968,55 €

>= 2 Sätze

18.605,52 €

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